F20膜厚測量儀

KLA的Filmetrics系列是利用光譜反射技術實現薄膜厚度的精確測量，測量范圍從納米到毫米級?？蓪崿F如光刻膠、氧化物、硅或者其他半導體膜、有機薄膜、導電透明薄膜等膜厚的精確測量，被廣泛應用于半導體、微電子和生物醫學等領域。Filmetrics具有F10-HC、F20、F32、F40、F50、F60-t等多款產品，可測量從幾毫米到450毫米大小的樣品，薄膜厚度從1nm到mm級。

主要應用

由于其模塊化的性質，F20可以適應多種應用：

1. 厚度、折射率、反射率、透射率的測量：

單層或多層堆疊薄膜

襯底材料

液體薄膜或空氣間隙

2. 適用于多種薄膜狀態的測量，包括：

在平面或曲面上

現場尺寸縮小到20微米

3. 量測樣品種類：

幾乎任何光滑的、半透明的或輕微吸收的薄膜都可以測量。這包括大多數介質和半導體。

技術能力

光譜波長范圍：190-1700nm

厚度測量范圍：1nm-250μm

測量n&k小厚度：50nm

準確度：取較大值，1nm或0.2%

分辨率：0.02nm

穩定性：0.05nm

光斑大?。?.5mm

樣品尺寸：直徑從1mm到300mm或更大

半導體薄膜：光刻膠、工藝薄膜、介電材料

液晶顯示：OLED、玻璃厚度、ITO

光學鍍膜：硬涂層厚度、減反圖層

高分子薄膜：PI、PC